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型號(hào):XTD-200

X熒光電鍍厚度測(cè)試儀

描述:X熒光電鍍厚度測(cè)試儀
1.*EFP算法:多層多元素、各種元素及有機(jī)物,甚至有同種元素在不同層也可測(cè)量。
2.上照式設(shè)計(jì):實(shí)現(xiàn)可對(duì)超大工件進(jìn)行快、準(zhǔn)、穩(wěn)高效率測(cè)量。
3.自動(dòng)對(duì)焦:高低大小樣品可快速清晰對(duì)焦。
4.變焦裝置算法:可對(duì)大90mm深度的凹槽高低落差件直接檢測(cè)。
5.小面積測(cè)量:小測(cè)量面積0.002mm2

  • 廠商性質(zhì)

    經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間

    2025-05-19
  • 訪問(wèn)量

    1674
詳細(xì)介紹
品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間10萬(wàn)-20萬(wàn)
產(chǎn)地類別國(guó)產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,包裝/造紙/印刷

X熒光電鍍厚度測(cè)試儀

是專門研發(fā)用于鍍層行業(yè)的一款儀器,可全自動(dòng)軟件操作,可多點(diǎn)測(cè)試,由軟件控制儀器的測(cè)試點(diǎn),以及移動(dòng)平臺(tái)。是一款功能強(qiáng)大的儀器,配上專門為其開(kāi)發(fā)的軟件,在鍍層行業(yè)中可謂大展身手。

應(yīng)用領(lǐng)域:

黃金,鉑,銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測(cè).
金屬鍍層的厚度測(cè)量, 電鍍液和鍍層含量的測(cè)定。
主要用于貴金屬加工和首飾加工行業(yè);銀行,首飾銷售和檢測(cè)機(jī)構(gòu);電鍍行業(yè)。


技術(shù)指標(biāo):
元素分析范圍從鈉(Na)到鈾(U)。
一次可同時(shí)分析zui多24個(gè)元素。
分析檢出限可達(dá)1ppm。
分析含量一般為1ppm到99.9%。
任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。
相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型。
多變量非線性回收程序。
多次測(cè)量重復(fù)性可達(dá)0.1%。
長(zhǎng)期工作穩(wěn)定性為0.1%。
溫度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。
電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源



產(chǎn)品詳情

XTD-200測(cè)厚儀,專業(yè)表面處理檢測(cè)解決方案:釹鐵硼磁鐵Ni/Cu/Ni/FeAlB電鍍層分析

兩層重復(fù)鎳鍍層厚度分析儀

XTD-200測(cè)厚儀,于檢測(cè)各種異形件,特別是五金類模具、衛(wèi)浴產(chǎn)品、線路板以及高精密電子元器件表面處理的成分和厚度分析。

儀器優(yōu)點(diǎn):

1. 分析精度*

2. 分析范圍廣泛

3. 微區(qū)定位

4. 操作簡(jiǎn)單快捷

5. 結(jié)果可靠

6. 行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)


XYZ高精密移動(dòng)裝置:快速定位,手/自動(dòng)(可選),自動(dòng)版可實(shí)現(xiàn)編程定位多點(diǎn)自動(dòng)測(cè)試。


軟、硬件雙向操作:人性化設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)軟件,硬件雙向快捷操作。

變焦 對(duì)焦:配備高敏感鏡頭,實(shí)現(xiàn)無(wú)感對(duì)焦,可測(cè)各種異形件、超大工件。



性能優(yōu)勢(shì):

1.*EFP算法:多層多元素、各種元素及有機(jī)物,甚至有同種元素在不同層也可測(cè)量。

2.上照式設(shè)計(jì):實(shí)現(xiàn)可對(duì)超大工件進(jìn)行快、準(zhǔn)、穩(wěn)高效率測(cè)量。

3.自動(dòng)對(duì)焦:高低大小樣品可快速清晰對(duì)焦。

4.變焦裝置算法:可對(duì)大90mm深度的凹槽高低落差件直接檢測(cè)。

5.小面積測(cè)量:小測(cè)量面積0.002mm2

6.大行程移動(dòng)平臺(tái):手動(dòng)XY滑臺(tái)100*150mm,自動(dòng)XY平臺(tái)200*200mm.


X熒光電鍍厚度測(cè)試儀結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì):

一六儀器研制的測(cè)厚儀*的光路交換裝置,讓X射線和可見(jiàn)光攝像同一垂直線,達(dá)到視覺(jué)與測(cè)試定位一體,且X光擴(kuò)散度極?。慌cEFP軟件配合達(dá)到對(duì)焦、變焦雙焦功能,實(shí)現(xiàn)高低、凹凸不平各種形狀樣品的測(cè)試;高集成的光路交換裝置與接收器的角度可縮小一倍,可以減少弧度傾斜放樣帶來(lái)的誤差,同時(shí)特征X射線可以穿透測(cè)試更厚的表層。


EFP算法:


采用Fp算法的后一代全新核心算法--理論Alpha系數(shù)法,基于熒光X射線激發(fā)的基本原理,從理論上計(jì)算出樣品中每個(gè)元素的一次和二次特征X射線的熒光強(qiáng)度,在基于此計(jì)算Lachance綜合校正系數(shù),然后使用這些理論a系數(shù)去校正元素間的吸收增強(qiáng)效應(yīng)。

只需少數(shù)標(biāo)樣來(lái)校正儀器因子,可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬以及有機(jī)物層。




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