性能介紹

設(shè)計科學，安全穩(wěn)定

在設(shè)備整體設(shè)計上打破了傳統(tǒng)測厚儀設(shè)計模式，機體結(jié)構(gòu)設(shè)計科學，更多的添加了人性化設(shè)計元素.

操作方便，工作效率高

采用軟硬件相配合的方式，通過機電聯(lián)動實現(xiàn)高效的運轉(zhuǎn)，提升厚度測量時效，畢竟這種設(shè)備主要被使用在鍍層生產(chǎn)企業(yè)，在使用中勢必要滿足生產(chǎn)需求。

精準度高，誤差率低

電鍍膜厚測量儀在使用中，不僅工作效率快，測量方便，另外測量數(shù)據(jù)同時也非常精準，這一點離不開設(shè)備所采用的X射線熒光檢測技術(shù)，利用X射線穿透被測物，通過射線穿透的時間確定被測物的厚度，這種測量方式可對大批量物體實現(xiàn)質(zhì)量(厚度)檢測，保證被測物在檢測過程中不會有任何的損傷，測量誤差率非常低，正是因為這種性能，使得電鍍測量儀被廣泛使用在半導體生產(chǎn)行業(yè);

技術(shù)指標

型號：XTU

元素分析范圍從硫(S)到鈾（U）。

同時可以分析30種以上元素，五層鍍層。

分析含量一般為ppm到99.9% 。

鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)（每種材料有所不同）

任意多個可選擇的分析和識別模型。

相互獨立的基體效應(yīng)校正模型。

多變量非線性回收程序

度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。

電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。

外觀尺寸： 576(W)×495(D)×545(H) mm

樣品室尺寸：500(W)×350(D)×140(H) mm

重量：40kg

標準配置

開放式樣品腔。

精密二維移動樣品平臺，探測器和X光管上下可動，實現(xiàn)三維移動。

雙激光定位裝置。

鉛玻璃屏蔽罩。

Si-Pin探測器。

信號檢測電子電路。

高低壓電源。

X光管。

高度傳感器

保護傳感器

計算機及噴墨打印機