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立式管式氣氛爐主要用于玻璃、生物陶瓷、石墨烯、鋰電正負極材料、晶體退火、LED發(fā)光材料等領(lǐng)域，進(jìn)行氣氛保護下對樣品進(jìn)行熱處理、燒結、沉積鍍膜、灰分測量等場(chǎng)合。

高溫管式電阻爐廠(chǎng)家這款管式爐以?xún)?yōu)質(zhì)硅鉬棒為加熱元件，采用雙層殼體結構，廈門(mén)宇電30段程序控溫系統，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用1700型氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統，能快速升降溫，采用99剛玉管、兩端用不銹鋼法蘭密封，用浮子流量計控制進(jìn)氣流量、該爐具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優(yōu)點(diǎn)，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、真空退火用的理想產(chǎn)品。

在氣氛管式爐的使用過(guò)程中，溫度有時(shí)候會(huì )出現偏差，這個(gè)時(shí)候要涉及到的問(wèn)題就是要如何去校準了。

PECVD系統是一種基于等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)的薄膜沉積設備，能夠對各種材料進(jìn)行薄膜沉積，包括金屬、半導體、絕緣體等。PECVD技術(shù)在微電子、光電、平板顯示、儲能等領(lǐng)域具有重要的應用價(jià)值。

真空管式爐是供實(shí)驗室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析測定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和電子陶瓷等新材料的加熱用儀器。

這款CVD系統集真空管式爐，多通道氣路系統和真空系統組成，可根據用戶(hù)需要設計生產(chǎn)（有雙溫區、三溫區、多溫區），可預抽真空（有高真空、低真空），通多種氣氛（供氣系統有質(zhì)子流量器和浮子流量控制器）。性能可靠。控制電路選用模糊PID程控技術(shù)，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡(jiǎn)單易操作等特點(diǎn)。